40 vuotta suomalaista atomikerroskasvatusteknologiaa

Ohuiden kalvojen rakentaminen atomi atomilta on materiaalikemian perustutkimusta, joka on johtanut moniin sovelluksiin teollisuudessa. ALD-tutkijat kehittävät uusia kemiallisia valmistusmenetelmiä materiaaleille, joita tarvitaan etenkin mikroelektroniikassa. Työ edellyttää ohutkalvo- ja pintatekniikoiden yhdistämistä nanotasolla, lähdeainemolekyylien syntetisointia ja molekyylien järjestämistä pinnoille. Suomessa teolliseksi prosessiksi kehitetty ALD-menetelmä on kemiallisen kaasufaasipinnoituksen muunnelma, jossa kalvoja rakennetaan atomikerroksittain.

Helsingin ylipistossa pidettävä Baltic ALD -kokous 12.-13.5.2014 kerää alan tutkijat 17 maasta koolle. Kutsuttuna puhujana konferenssissa luennoi myös Tuomo Suntola aiheella ”From ideas to global industry – 40 years of ALD in Finland”. Tekniikan tohtori Suntola kehitti ja patentoi ALD-menetelmän alkujaan käytettäväksi elektroluminenssinäyttöjen valmistuksessa.

ALD-menetelmä kiinnostaa maailmalla, koska se on käytännössä ainoita menetelmiä, joilla muutaman atomikerroksen paksuisia materiaalikerroksia voidaan valmistaa hallitusti. Menetelmä on luotettava, ja sen etuihin kuuluu, että kalvojen lähtöaineina käytettävät kaasumolekyylit löytävät mikropiirien viimeisimpiinkin sopukoihin.

Mikroelektroniikkateollisuudelle (mikroprosessorit, muistit) ALD on erityisen tärkeä, sillä se mahdollistaa, että tietokoneemme toimivat entistä nopeammin ja tehokkaammin, mutta silti viileämmin. Muita ALD:n nykyisiä ja mahdollisia tulevia sovelluskohteita ovat näytöt, ruosteenesto- ja muut suojapinnoitteet, optiikka, litium-ioniakut sekä aurinko- ja polttokennot, kuten myös useat muut mikroelektroniikan, nanoteknologian sekä ympäristötekniikan sovellukset. Suomalaiset tutkimustulokset useista yliopistoista ja teknillisissä korkeakouluista ovat vahvistaneet myös maamme atomikerroskasvatusteollisuuden (ASM Microchemistry Picosun ja Beneq) asemaa kansainvälisessä kilpailussa. Nämä jatkavat 40-vuotisen ALD-tutkimuksen hyödyntämistä aiempien suomalaisten yritysten, kuten Nesteen, Instrumentariumin ja Lohjan, jalanjäljissä.

Suomen Akatemian Atomikerroskasvatuksen huippututkimusyksikön Baltic ALD -kokous, Helsingin Kumpulan tiedekampuksella Physicumissa 12.-13.5.2014: http://www.aldcoe.fi/bald2014

Atomikerroskasvatuksen huippututkimusyksikkö: http://www.aldcoe.fi

ALD-huippuyksikköä johtaa professori Markku Leskelä Helsingin yliopiston kemian laitokselta: http://www.helsinki.fi/tutkimus/huippuyksikot/2012-2017/markku_leskela.html

http://www.helsinki.fi/tutkimus/tutkijat/siteeratuimpia/leskela_ritala.html

Lisätietoja antaa professori Markku Leskelä, puhelin 040 755 3789, markku.leskela@helsinki.fi

Esittely tekniikan tohtori Tuomo Suntolasta:

http://www.picosun.com/binary/file/-/id/3/fid/78/

Materiaalia ALD-menetelmän sovelluksista: http://yle.fi/uutiset/atomikerroskasvatus_mullistaa_kahvipaketin/5541472

http://www.kemia-lehti.fi/wp-content/uploads/2013/09/ALD_kerrostaa_atomit_kauniisti_Kemia-lehti_02.09.13.pdf

Ystävällisin terveisin

Minna Meriläinen-Tenhu, tiedottaja, puhelin 050 415 0316, minna.merilaine@helsinki.fi
Tiedevelhot ja mediahippa: http://blogs.helsinki.fi/mmerilai/
www.twitter.com/MinnaMeriTenhu